Электротехника, электроника, энергетика, информационные и компьютерные технологии

Низкотемпературная плазменная обработка материалов находит широкое применение в различных современных технологических процессах и всё более вытесняет традиционные химические методы обработки. Благодаря таким преимуществам, как уменьшение уровня загрязнения окружающей среды, возможность выборочной обработки, высокая пропускная и разрешающая способность плазменная обработка материалов получила широкое применение особенно при производстве полупроводниковых приборов, ЖК экранов, микроэлектромеханики и т.д. Данный метод был впервые внедрён в процесс производства полупроводниковых приборов в 70-х годах, после чего были поэтапно разработаны более целенаправленные и избирательные методы плазменной обработки. Учитывая, что плазма представляет собой сложную нелинейную систему, а также то, что современные системы контроля и управления имеют большую затратность, в исследованиях основной акцент был поставлен на разработку надёжных и эффективных методов контроля и управления радиочастотной плазмой с относительно малыми материальными и энергетическими затратами. Целью данного проекта является исследование современных проблем контроля и управления РЧ плазмы, усовершенствование используемых методов, а также разработка новых методов, которые позволяют увеличить эффективность и надёжность таких систем.

-

Существует значительный спрос и рынок, существенная разница между рыночной ценой и себестоимостью, легкая поставка, значительное отношение цена/вес

Арсен Ахумян – научный руководитель Института радиофизики и электроники НАН РА, зав. лабораторией
Эл. почта: arsen {[ at ]} irphe.am
Тел.: (+374 91) 450674